English



Nusodinimo įranga

Charakterizavimo iranga

Projektai ir partneriai

Konferencijos

Publikacijos

Grupės vadovas
Habil dr. prof. Adulfas ABRUTIS

Tel: 370-5-2193173
Faks: 3705-2330987
E.p.: adulfas.abrutis@chf.vu.lt

Adresas: Vilniaus universitetas, Chemijos fakultetas, Neorganinės chemijos katedra, Naugarduko 24, LT-03225 Vilnius, Lietuva

MOCVD Grupė:

MOCVD grupėje dirbo:
Dr. Arunas Teiserskis, Dr. Vladimir Sivakov, Dr. Sergej Pasko, Dr. Ausrine Bartasyte, Dr. Anna Zukova, Dr., Mindaugas Lukosius, Dr. Lina Parafianovic, Dr. Rasuole Dirsyte, Dr. Raimondas Galvelis, Zygimantas Salciunas, Tomas Katkus, Martynas Skapas, Sandra Stanionyte, Laimis Silimavicius.

Pagrindinės mokslinės veiklos sritys:

Oksidinių sluoksnių, daugiasluoksnių ir supergardelių nusodinimas ir tyrimas įvairiems pritaikymams

Nusodinimo metodai:
  • Žemo slėgio impulsinis injekcinis MOCVD (PI-MOCVD)
  • Atmosferinio slėgio aerozolinis MOCVD (AA-MOCVD), aerozolių-pirolizė
  • Žemo slėgio modifikuotas karštos vielos MOCVD (HW-MOCVD)

Sukurtas (kartu su LMGP, INPG, Grenoblis) naujas metodas oksidų sluoksnių nusodinimui - impulsinis injekcinis MOCVD, kuris išvystytas iki universalios technologijos įvairių funkcinių oksidų sluoksnių ir daugiasluoksnių sandarų sintezei. Apie15 metų bendradarbiavimas su LMGP, ENSPG-INPG, Grenoblis (~50 bendrų publikacijų).

Sukurtas kombinuotas karštos vielos MOCVD-Impulsinio injekcinio MOCVD metodas, kuris išvystytas neoksidinių ir oksidinių medžiagų sluoksnių nusodinimui.

OKSIDŲ SLUOKSNIŲ IR DAUGIASLUOKSNIŲ STRUKTŪRŲ NUSODINIMAS PI-MOCVD BŪDU

  • Aukštatemperatūriai superlaidininkai
      • Aukštų krizinių parametrų YBa2Cu3O7-x (YBCO) sluoksniai ant įvairių monokristalinių padėklų [1]
      • Homogeniški aukštų krizinių parametrų YBCO sluoksniai ant didelio paviršiaus (3 colių) padėklų [2]
      • Orientuoti YBCO sluoksniai ant sidabro, nerūdijančio plieno (IBAD) ir tekstūruotų Ni ar jo lydinių padėklų [3]
      • SmBCO sluoksniai ant monokristalinių ir IBAD padėklų [3a]
    • Buferiniai sluoksniai YBCO nusodinimui: CeO2, YSZ, MgO, Y2O3 įvairios daugiasluoksnės buferių architektūros ant tekstūruotų Ni ar jo lydinių padėklų [4]
    • Stori ZrO2 sluoksniai [5]
    • Feromagnetiko BaFe12O19 sluoksniai [6]
    • Laidūs oksidiniai sluoksniai: epitaksiniai SrRuO3 sluoksniai ant įvairių padėklų [7]
    • Didelio-k dielektrikai (Ta2O5, Al2O3, Pr2O3, Pr6O11, HfO2, ZrO2, BaxSr1-xTiO3, Sc2O3, Nd2O3, Gd2O3, Dy2O3, HfAlxOy, HfSixOy, BaTiO3, BaHf1-xTixO3) [8]
    • Feroelektriniai PbTiO3 sluoksniai [8a]
    • Magnetovaržiniai oksidai: La1-xMnO3 and La1-xSrxMnO3 sluoksniai [9]
    • Co3O4 [10]
    • SrRuO3/YBCO [7]
    • SrTiO3/YBCO [11]
    • La1-xSrxMnO3/YBCO [12]
    • SrTiO3/ La1-xSrxMnO3 [13]
    • La1-xSrxMnO3/SrTiO3/ La1-xSrxMnO3 [13]
    • La1-xSrxMnO3/SrTiO3/YBCO – nustatytas spinų injekcijos iš feromagnetinio oksido į superlaidų oksidą efektas [14]
    • (Ta2O5/SiO2)n daugiasluoksnės struktūros [15]
    • Supergardelės (PrBa2Cu3O7-x/PrBa2Cu3O7-x)n [16]
    • Supergardelės (BaTiO3/SrTiO3)n ir (La1-xSrxMnO3/SrTiO3)n [17]

    PEROVSKITINIU OKSIDU SU MISRIU ELEKTRONINIU-JONINIU LAIDUMU SLUOKSNIAI DEGUONIUI LAIDZIOMS MEMBRANOMS

    Nusodinimas impulsiniu injekciniu MOCVD (žemame slėgyje) [18]
    Nusodinimas aerozolių pirolizės būdu (atmosferiniame slėgyje) [19]
    Sluoksniai ant monokristalinių padėklų
    Sluoksniai ant porėtų keraminių padėklų

    Tirtos šios membranų sudėtys: La1-xSrxFe1-y (Co,Ni)yO3, La1-xSrxGa1-y(Co,Ni,Fe,Mg)yO3,
    Ba1-xSrxCo1-yFeyO3, La1-x (Sr,Ca)xMnO3, La2NiO4 and LaNiO3, La1-xSrxCoO3

    OKSIDŲ SLUOKSNIAI ELEKTRO-KATALIZEI IR FOTOKATALIZEI

    Nusodinimas PI-MOCVD ir aerozolių pirolizės metodais

    • Laidūs Cd2SnO4 sluoksniai elektrokatalizei[21]
    • InVO4, InTaO4, InVO4 sluoksniai fotokatalizei[22]

    OKSIDŲ SLUOKSNIAI AKUSTO-ELECTRONIKAI

    Nusodinimas PI-MOCVD ir aerozolių pirolizės metodais

    • Epitaksiniai LiNbO3 ir LiTaO3 sluoksniai [24]

    ŠVIESAI IR ELEKTRAI LAIDŪS OKSIDŲ SLUOKSNIAI OPTOELEKTRONIKAI

    Nusodinimas karštos vielos MOCVD ir aerozolių pirolizės metodais

    • In, Ga, Al legiruoto ZnO ir In2O3-ZnO sluoksniai [25]

    CHALKOGENIDŲ SLUOKSNIAI

    Nusodinimas karštos vielos MOCVD ir PI-MOCVD metodais

    • GeTe ir Ge2Sb2Te5 sluoksniai fazinio virsmo tipo atmintims[23]

    LAKIŲ METALOORGANINIŲ (MO) JUNGINIŲ CHEMIJA

    • Tradicinių MO junginių sintezė, gryninimas, charakterizavimas ir pritaikymas MOCVD (metalų b-diketonatai)

    (tmhd - 2,2,6,6-tetrametil-3,5-heptandionatas), acac - acetilacetonatas, phen - o-fenantrolinas).

    Al(tmhd)3, Al(acac)3,
    Ba(tmhd)2·2H2O, Ba(tmhd)2tetraglyme, Ba(tmhd)2(phen)2,
    Ca(tmhd)2,
    Ce(tmhd)4,
    Co(tmhd)2, Co(tmhd)3
    Co(acac)2H2O, [Co(acac)2]4, Co(acac)3
    Cu(tmhd)2,
    Eu(tmhd)3,
    Fe(tmhd)3, Fe(acac)3
    Ga(tmhd)3, Ga(acac)3
    Ho(tmhd)4,
    K(tmhd), Na(tmhd),
    La(tmhd)3,
    Mg(tmhd)2,
    Mn(tmhd)3,
    Nd(tmhd)3,
    Ni(tmhd)2, Ni(acac)2
    Ru(tmhd)3, Ru(acac)3,
    Sm(tmhd)3,
    Sr(tmhd)2,
    Ti(tmhd)2(O-iPr)2
    Y(tmhd)3,
    Zn(tmhd)2,
    Cd(tmhd)2,
    Zr(tmhd)4,

    • Naujų MO junginių sintezė, gryninimas, tyrimas ir pritaikymas MOCVD[20]
    • Co(acac)2(TMEDA) (TMEDA = N,N,N’,N’- tetrametil - 1,2 - diaminetanas) - nustatyta struktūra
    • Co(acac)2(DMAPH) (DMAPH=1- dimetilamin-2-propanolis) - nustatyta struktūra
    • Co(acac)2(DMAEH) (DMAEH=2-dimetilaminetanolis)
    • Co(tmhd)2(TMEDA)
    • Y(tod)3·H2O (tod = 2,7,7-trimetil-3,5-oktandionatas)
    • Cu(tod)2
    • Sr(tod)2
    • Ba(tod)2
    • Ti(OiPr)2(tod)2
    • Zr(tod)4
    • Zr(tmnd)4 (tmnd=2,2,8,8-tetrametil-4,6-nonandionatas)
    • Cu(tmnd)2
    • Hf(tod)4
    • Hf3O(ONep)10 (hafnio oksoneopentoksidas)
    • Hf(tmnd)4
    • HfAl2(OPri)8(dmae)2 (dmae = N,N-dimetilaminetoksidas) - nustatyta struktūra
    • HfAl2(OPri)8(dmap)2 (dmap = dimetilaminpropoksidas)
    • HfCl2(tmhd)2
    • HfCl(tmhd)3 - nustatyta struktūra
    • Hf(tmhd)2[N(SiMe3)2]2
    • Hf(tmhd)2(OSiMe3)2
    • Hf(tmhd)2(OSitBuMe2)2 - nustatyta struktūra
    • Hf(tbob)4 (tbob = tret-butil-3-oksobutanoatas or tret-butilacetoacetatas)
    • Sr bis-N,N-di(izopropil)aminetilamin-2-penten-4-onatas - nustatyta struktūra
    • Cd(tmhd)2 (TMEDA)

    LABORATORINIŲ IMPULSINIO INJEKCINIO MOCVD REAKTORIŲ KONSTRAVIMAS IR ĮDIEGIMAS

    • Technologinės impulsinio injekcinio MOCVD įrangos modernizavimas ir optimizavimas.
    • Laboratoriniai reaktoriai gali būti sukonstruoti ir įdiegti kitose laboratorijose pagal užsakymą, kartu su oksidų sluoksnių nusodinimo technologijomis. 
    • Septyni reaktoriai jau įdiegti užsienio laboratorijose (keturi Ispanijoje, vienas Airijoje, vienas Portugalijoje ir vienas Meksikoje). 
    • Bendrą impulsinio injekcinio MOCVD sistemos vaizdą galite rasti čia (reaktoriai Vilniaus universitete ir reaktorius, įdiegtas Lisabonos universitete, Portugalija )

Puslapis atnaujintas: 2016 m. sausio 5 d.

Neorganinės chemijos katedra, Chemijos fakultetas,
Naugarduko 24, LT-2006 Vilnius, Lietuva

Vilniaus Universitetas